UV曝光机-SG4003
■ 出射光强范围:8mW/cm2~40mW/cm2
■ 应用对象:半导体、微电子、生物器件等
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描述
组成机构:
UV灯构造;带托盘的晶片工作台;曝光机配CCD镜头的显微镜;监视器;掩膜夹具;UV灯透镜;UV灯镜片;UV灯电源系统;操作控制器350W;UV灯晶片台
基底尺寸 标准尺寸 最大至4英寸;可选最大至6英寸;托盘 标准尺寸 最大至4英寸;可选最大至6英寸;
活动范围:X:10mm Y: 10mm Z : 10mm Theta: 4 度
挤入补偿 空气轴承型
Z轴滑动 手动
真空泵 无油真空泵
掩膜台
掩膜夹具类型 真空吸附和机械夹取
均匀光束大小 4.25“ X 4.25“支持接近式曝光,各种接触式(真空接触、软接触、硬接触等)曝光
接触式曝光特征尺寸:0.35 um@深紫外DUV:0.5um@近紫外NUV;0.6um@紫外UV;接近式曝光特征尺寸:1um @ Gap为20 um;2um @ Gap为50 um;